有機エレクトロニクス研究センター＞【開催終了】第１１５回有機エレクトロニクス研究センター講演会開催について（２月２２日）

イベント

【開催終了】第１１５回有機エレクトロニクス研究センター講演会開催について（２月２２日）

2016年03月01日掲載

【開催終了】第１１５回有機エレクトロニクス研究センター講演会開催について（２月２２日）

2016年01月15日掲載

日時	平成２８年２月２２日（月）　１５：００～１６：３０
会場	工学部百周年記念会館セミナールーム
講師	下記の通り
演題	下記の通り

講演内容
1.＜一般講演＞
　　演題：プラズマ励起法を用いたZrO2の室温原子層堆積法の開発
　　講師：山形大学　鹿又健作
　　時間：１５:００～１５:３０
　　概要：原料ガスにTEMAZと酸化剤にプラズマ励起水蒸気を活用して、ZrO2室温原子層堆積法を開発した。
講演では、主たる結果および成膜反応のその場観察研究の成果について紹介する。

2.＜一般講演＞
　　演題：Photocatalytic and photoelectrochemical hydrogen production over TiO2 based nanomaterials
　　講師：山形大学　有馬バシルアハマド
　　時間：１５:３０～１６:００
　　概要：We show the effect of graphite silica on the photocatalytic hydrogen production over TiO2 nanoparticles under ultraviolet light irradiation. Moreover, we show the fabrication and characterization of quantum dot sensitized 1D TiO2 films for photoelectrochemical hydrogen production via water splitting under visible light irradiation.

3.＜招待講演＞
　演題：Oxide Layers on Metals: a Surface Science Approach
　講師：フランスChimi Paris Tech Phillipe　Marcus　教授
時間：１６:００～１６:３０
概要：“Oxide layers on metals” is a key issue in several areas, and especially for the protection of metallic materials against corrosion.　This lecture will focus on recent advances in the characterization and understanding of the chemical and structural properties of oxide layers on metals and alloys at the nanoscale, using a surface science approach. The data that will be reviewed are based on the application of advanced surface analytical techniques, such as STM, STS, XPS, ToF-SIMS, combined with electrochemical measurements, and complemented by DFT modeling.

連絡先：廣瀬文彦　（3767）