福田憲二郎 助教の研究が「科学技術振興機構(JST) 戦略的創造研究推進事業(さきがけ)」に採択されました

福田憲二郎 助教の研究が、「科学技術振興機構(JST) 戦略的創造研究推進事業(さきがけ)」に採択されました。

科学技術振興機構(JST)
戦略的創造研究推進事業(さきがけ)

研究領域:素材・デバイスシテム融合による革新的ナノエレクトロニクスの創成
研究課題:「ナノ膜厚ポリマー絶縁を利用した全印 ナノ膜厚ポリマー絶縁を利用した全印 刷型基 板レス有機集積回路の創成 」
研究代表者:福田憲二郎
期間:平成26年10月~平成30年3月

URL : http://www.jst.go.jp/kisoken/presto/news/2014/140926presto.pdf

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